重大突破！我国新一代光刻机模型亮相 性能直追国际标杆：全国产半导体可期

快科技11月9日消息，正在举办的进博会上，上海微电子装备集团（SMEE）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，正式对外展示我国前道光刻装备自主化的最新阶段性成果。

这次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电架构的链路布局。对于光刻机这类高度复杂的尖端工业装备而言，剖视模型的意义就在于让外界得以一窥原本高度保密的内部结构，光的传输路径、机电架构的协同逻辑全部一目了然。

SMEE介绍，该渠道是完全自主搭建的国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术力路线。整机重点的高精度物镜与照明架构、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输架构、高精度对准调平传感架构均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

换句话说，从光学到机电、从传输到对准，所有影响设备重点性能的枢纽环节全部掌握在自己手中，不存在外部供应链卡脖子的危险。

性能是检验装备成色的硬指标。据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先业务水平相当，套刻精度、生产效率值等重点参数也在紧密追赶国际标杆。

在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台渠道塑造，均搭载国产自主大NA物镜，枢纽曝光成像指标对标国际标杆，其中SSC800整体性能跻身全球产业第一梯队。

这意味着国产干式光刻机早已跨过了“能用”的入门门槛，在重点指标上已经站到了可以和国际领先业务同台比拼的位置。

自主可控不止体现在设计层面，更体现在制造与验证的全流程环节。基于全栈自主可控的技术力底座，两款机型的枢纽零部件国产化率突破90%，目前已完成技术力定型并进入规模化量产阶段，彻底填补了国内相关范围的长期空白。

比纸面参数更具说服力的是真实产线的运行数据：多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计助力产线流片超千万片，设备全年有效运行率超92%。量产线的长期稳定运行表现与高有效运行率，才是衡量高端半导体制造装备可靠性的最硬核标准。

有产业资深人士表示，随着前道光刻装备这一最重点的短板被逐步补齐，真正的全国产半导体时代很快就要到来，国内整个芯片制造产业链的自主化迭代速度，也会随之迈入全新的快车道。

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